日立高分解能FEB測長装置　CG4000

基本性能向上

装置システムを全体的に改良し、日立測長SEM史上最高の像分解能1.8nm（@800V）、高精度測長再現性　0.3nm （3） を実現。
（試料：標準分解能試料および日立標準ウェーハ）

DBM（Design Based Metrology）対応

日立DesignGauge（オプション）との接続により、設計データとウェーハ上のパターン形状の形状誤差（EPE（注1））を計測可能。これによりOPC検証のための新たな計測データを提供。

（注1） EPE：Edge Placement Error

生産性向上

• 高精度プロセスモニター

多ピクセル画像取得機能とACD（Averaged CD）機能搭載により、高精度な低倍平均化計測が可能。製造装置へ迅速にフィードフォワード＆バックすることで、製造装置の稼働率向上、生産ラインの歩留まり向上・維持に大きく貢献し、プロセスモニターの新しいパラダイムを提供。また、多種多様なパターンにも対応。

• オフラインレシピ対応

日立DesignGauge（オプション）により作成した設計データを使った測定レシピが実行可能。これにより、レシピ作成を含めた測定時間と、レシピ作成のための測長SEMの使用時間を削減。