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日立マイクロ波ECRプラズマエッチング装置 M-7150(M-712XT)

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製品写真:日立マイクロ波ECRプラズマエッチング装置 M-7151(M-712XS)

多くの実績を持つマイクロ波ECR技術に、最新の歩留向上と生産性向上技術を加味した300mmウェーハ対応のシリコンエッチング装置です。2エッチングチャンバー、2アッシングチャンバーの搭載が可能で、APC(Advanced Process Control)システムのオプション装備も対応いたします。

セクションタイトル特長

従来のM-712に歩留向上・生産性向上へ踏み込んだ最新技術を導入

  • 歩留り向上。
    同軸高速排気/アドバンスト温度制御電極。
  • 生産性向上。
    低壁面積処理室/完全スワップキット化/In-Situ クリーニング電極。
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テクニカルレポート

日立ハイテクデバイス関連機器の技術情報を掲載しています。

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