絶縁膜用エッチング装置

U-8250は、電極間距離を設定することが可能であり、積層構造膜の加工時に、各膜種に対して、適切な加工条件を構築できます。
これにより、高アスペクトなホールからハードマスクの加工まで広範囲なアプリケーションにおいて、高い生産性を確保し、優れたウェーハ面内均一性を実現します。また、ガスの導入や温度の設定をウェーハ面内で制御可能な構造を採用し、さらなる均一性の向上を図っています。これらの技術により、幅広い用途に、高精度な加工を提供します。