日立UHF-ECRプラズマエッチング装置　U-7000シリーズ

特長

• UHF-ECRプラズマ技術により、高精度・低ダメージエッチングを実現。
• エッチングガスの供給領域やリアクター構造を最適化して、反応ガス・ウェーハ表面への堆積物の分布を均一化。
• UHF-ECRプラズマが有する低乖離・低堆積性により、形状制御性・高選択性エッチングを実現。