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ナノアート 1998年度作品

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ページタイトルナノアート 1998年度作品 1 2 3

セクションタイトル絶壁に立つ超高層ビル

作品画像:絶壁に立つ超高層ビル

直接加熱方式の試料加熱ホルダーと簡易型雰囲気試料反応室を用い、タングステン線ヒーターに付着させたSi粒子を加熱することにより、成長させたSi-W-Oウィスカー結晶の高分解能TEM像です。酸化したSi粒子の表面にまっすぐに成長した姿は超高層ビルを思い浮かばせます。

1998年(第54回) 日本電子顕微鏡学会 写真コンクール金賞受賞作品

撮影条件

試料 : Si-W-O ウィスカー
測定装置 : 電子顕微鏡 H-9000NAR
撮影倍率 : 200,000倍
加速電圧 : 300 kV

  • 作成者の所属情報は作成当時の情報です。
  • この作品は日本顕微鏡学会主催、「写真コンクール」に出展された作品です。
  • nanoartに掲載された写真、文章の無断転載を禁じます。
  • 著作権・リンクに関してはこちらから。
  • 「nanoart」は(株)日立ハイテクノロジーズの日本国内における登録商標です。

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