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ナノアート 2001年度作品

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ナノアート 2001度作品 1 2 3

セクションタイトルMicro-hat

作品画像:Micro-hat

64M DRAMを割断し、メタル配線を加速電圧200 kVのSEMで観察したもの。
立体的に割断されたメタル配線が周囲のSiO2から浮かび上がり、TiNのリボンをつけたW帽子のように見えます。

2001年(第57回) 日本電子顕微鏡学会 写真コンクール出展作品

撮影条件

試料 : 64M DRAM
測定装置 : 超薄膜評価装置 HD-2000
撮影倍率 : 100,000倍
加速電圧 : 200 kV

  • 作成者の所属情報は作成当時の情報です。
  • この作品は日本顕微鏡学会主催、「写真コンクール」に出展された作品です。
  • nanoartに掲載された写真、文章の無断転載を禁じます。
  • 著作権・リンクに関してはこちらから。
  • 「nanoart」は(株)日立ハイテクノロジーズの日本国内における登録商標です。

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