ナノアート 2002年度作品

（株）日立サイエンスシステムズ 矢口紀恵、佐藤高広、上野武夫
（株）日立ハイテクノロジーズ 大塚久史

これは、Si [111] の晶帯軸入射の大角度収束電子回折（Large　Angle　Convergent　Beam　Electron　Diffraction：LACBED）パターンです。
収束された電子線によって、Si結晶を構成する原子の配列から美しい対照性をもった幾何学パターンが生まれます。 それは、多くの結晶学的情報を含んだ紋章と言えるのではないでしょうか？

2002年（第58回）　日本電子顕微鏡学会 写真コンクール出展作品