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ナノアート 2005年度作品

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ページタイトルナノアート 2005度作品 1 2 3 4

セクションタイトルPanorama Diffraction Pattern

作品画像:Panorama Diffraction Pattern

世界初、試料を180°回転しながら観察した電子線回折像です。[110]を中心とした合計13個の電子回折像が欠落なく連続的に観察されています。中央はその観察に用いた試料のSEM像です。試料はFIBマイクロサンプリング法により直径0.2マイクロメートルの円柱状に加工し、試料回転ホルダーを用いて観察しました。電子顕微鏡による三次元ナノ構造解析がまた一歩、進歩しました。

2005年(第61回) 日本顕微鏡学会 写真コンクール最優秀作品賞受賞作品

撮影条件

試料 : シリコン(Si)単結晶
測定装置 : 透過電子顕微鏡 H-9500
加速電圧 : 300 kV
カメラ長 : 0.5 m

  • 作成者の所属情報は作成当時の情報です。
  • この作品は日本顕微鏡学会主催、「写真コンクール」に出展された作品です。
  • nanoartに掲載された写真、文章の無断転載を禁じます。
  • 著作権・リンクに関してはこちらから。
  • 「nanoart」は(株)日立ハイテクノロジーズの日本国内における登録商標です。

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