ナノアート 2006年度作品

（株）日立ハイテクノロジーズ 黒田靖、矢口紀恵、大西毅
（株）日立ハイテクフィールディング 西元有香

写真は集束イオンビーム(FIB：Focused Ion Beam)加工技術を用いて作製した、世界で最も小さい塔の二次電子像です。
Siウエハからマイクロサンプリング法で高さ10の微小片を摘出し、試料回転ホルダーの試料台に固定した後、試料を回転しながら塔の形に加工しました。
もともと半導体デバイスの修復や評価用に開発されたFIB加工技術ですが、マイクロマニピュレーション技術の発達により、このような微細加工も出来るようになりました。

2006年　第16回 国際顕微鏡学会議（IMC16）　写真コンクール　材料部門第1位受賞作品