ナノアート 2007年度作品
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FIB加工技術を用いて、シリコンウエハーから取り出したミクロンサイズのブロックから高さ約15 2007年(第63回) 日本顕微鏡学会 写真コンクール 最優秀賞受賞作品 |
試料 : シリコン単結晶
加工装置 : 集束イオンビーム加工観察装置 FB-2100
撮影倍率 : 3,500倍
加速電圧 : 40 kV
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