日立イオンミリング装置 E-3500

特長

• 試料上部に配置された遮蔽板によりアルゴンイオンビームの一部を遮蔽し、遮蔽板端面に沿って平坦な試料断面を作製します。
• 機械研磨や切削では取り除けない細かな傷や歪をアルゴンイオンビームにより除去します。
  
• 加速電圧は0〜6ｋVから選択できますので、鉱物などの硬い試料からダメージを受けやすい高分子試料まで、さまざまな試料の断面作製に適応できます。
  
• 最大20mm×12mm角、5mm厚さの試料を搭載可能です。
• 試料ステージは本体から脱着できますので、試料の装着が容易に行えます。

アプリケーション例

はんだボール断面	セラミックコンデンサ断面

仕様

日立イオンミリング装置 E-3500 製品仕様

項目	内容
使用ガス	Ar（アルゴン）ガス
加速電圧	0〜6kV
放電電流	0〜999A
ミリングレート（注）	100m/hr (Si)
Arガス流量制御方式	マスフローコントローラ
最大試料サイズ	20(W)×12(D)×5(H)mm
試料移動範囲	X±10mm、Y+1〜-5mm
真空排気系	ターボ分子ポンプ（26L/s）+ロータリーポンプ（135L/s）
電源	AC 100V（±10%)、50/60Hz、1.25kVA、3Pプラグコード

（注） 遮蔽板端部から試料端部までの距離を100mとした場合の数値。

大きさ・質量

項目	幅×奥行き×高さ	質量
本体	400×660×505mm	45kg+ロータリーポンプ28kg

　

お客様準備品

項目	内容
Arガス	純度99.99%以上
Arガス圧力	0.03〜0.05MPa
Arガス導入配管（注1）	1/8インチSUS管（1/8スウェージロック対応）、調圧器
酸素濃度計（注2）	酸素濃度19%以上が確認できるもの

（注1） Arガス供給設備（Arガスボンベ）と装置間をつなぐ配管です。
　　　　供給設備（Arガスボンベ）用のレギュレータもご準備ください。
（注2） アルゴンガスは窒息性がありますので、設置場所には換気設備をご準備ください。