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「ナノメートル時代の最先端半導体デバイスの量産を支えるベストソリューション」（日立評論2004年7月号より転載）

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pdfファイルを開くナノメートル世代のシリコン半導体デバイスの展望（PDF形式：117KB）
木村紳一郎・久本　大・杉井信之
pdfファイルを開く半導体デバイスの高品質・高効率生産を実現する検査・解析ソリューション（PDF形式：260KB）
野副真理・品田博之・二宮　拓・磯貝静志・一安洋二
pdfファイルを開く65nmプロセスノードに対応するCD-SEM技術（PDF形式：214KB）
山口敦子・中垣　亮・川田洋揮
pdfファイルを開く65nmノード対応高性能明視野光学式ウェーハ外観検査装置「HA-3000形」（PDF形式：171KB）
渡辺健二・前田俊二・船越知弘・宮崎陽子
pdfファイルを開く微細化・高集積化デバイス対応QTAT三次元ナノアナリシス技術（PDF形式：236KB）
矢口紀恵・上野武夫・大西　毅・橋本隆仁・朝山匡一郎
pdfファイルを開くアクティブAPCシステム搭載高精度エッチング装置（PDF形式：215KB）
幾原祥二・鹿子嶋　昭・白石大輔・田中潤一
pdfファイルを開く65nmノード対応マスク用電子線描画技術（PDF形式：148KB）
川野　源・門脇康浩・大貫和喜・太田洋也
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