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外围设备

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日立离子研磨仪IM4000

 
IM4000 具有断面加工和平面研磨功能的仪器!
  • 混合模式:两种研磨配置
    断面加工:将样品断面研磨光滑,便于表面以下结构高分辨成像。
    平面研磨:将样品表面均匀研磨5平方毫米,从不同角度有选择地研磨,以便突出样品的表面特性。
  • 高通量:提高加工效率
    与之前的E-3500型相比,采用新型离子枪设计,减少了横截面研磨时间。
    (最大加工率:硅元素为300微米/小时 — 加工时间减少了66%。
  • 可拆卸样品台装置:为便于样品设置和定义研磨边缘,可将样品台装置拆卸。
 

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日立磁控溅射器E-1045

 
E-1045 该溅射器采用了电磁管电极,能够最大限度地减轻对样品的损坏,并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。
  • 最大样品直径:60 mm
  • 最大样品高度:20 mm
 

日立高精度冷却循环水单元W-5020Td

 
W-5020Td 为适应场发射扫描电子显微镜性能提升的要求,需精确控制电子透镜冷却水的温度。由于用于透镜冷却的水是循环使用的,可以尽量减少水的消耗量,从而降低设备运行成本。该装置可以与扫描式电子显微镜同步开启和关闭,因此,操作者无需另外进行冷却单独操作。
  • 电源要求:单相,100 V AC, 2.0 kVa
  • 外形尺寸/重量:400(W)x 450(D)x 665(H)mm;约73kg。
 

日立高精度冷却液循环单元W-5030

 
W-5030 该单元可向扫描式电子显微镜和聚焦离子束系统等设备提供精确控制温度的冷却水。由于冷却水是循环使用的,水的消耗量降至最低,可以节约设备的运行成本。该单元主要适用于冷却油扩散泵(DP)。W-5030冷却循环单元可以同步与扫描式电子显微镜开启和关闭。
因此,操作者无需另外单独操作。冷却操作完成后,该单元可以自动关闭。
  • 电源要求:单相,100 V AC, 1.5 kVA
  • 外形尺寸/重量:400(W)x 450(D)x 665(H)mm;约70kg。
 
 
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