株式会社日立ハイテクノロジーズ（執行役社長：大林 秀仁）は、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）用の試料の前処理装置として直径約５ｍｍの範囲を均一に加工するフラットミリング装置「ＩＭ−３０００形」を５月１８日から発売します。
イオンミリング装置は、応力レス加工を特徴とするイオンスパッタリング現象（注１）を用いることにより、試料表面の平坦加工を行う装置として、半導体デバイス分野や材料分野をはじめ、あらゆる産業の研究・開発から品質管理など、多方面でその有効性が認められ、ＳＥＭ観察用試料の表面層除去や断面試料の最終仕上げ装置として威力を発揮します。
当社のフラットミリング装置は、１９８９年の発売以来約１６０台を販売しており、多くの分野で活躍しています。
今回開発した「ＩＭ-３０００形」は、ペニングイオン銃を搭載し、高密度で安定したアルゴンイオンビームの形成を実現しました。排気系では、ターボ分子ポンプ（ＴＭＰ）（注２）を標準装備し、従来搭載していた油拡散ポンプ（ＤＰ）（注３）に比べ、装置の立ち上げ時間を５分の１に短縮（注４）し、スループットの大幅な改善を実現しています。さらに、省電力（従来比５０％削減）、卓上型で省スペース化（従来比２分の１）を実現し、環境配慮型設計を実施した製品となっています。
本体標準価格は８８０万円。年間１００台の販売を見込み、２００７年９月から出荷を開始する予定です。
（注１） 加速したイオン粒子を物質に衝突したとき、衝突した物質から原子や分子が叩き出される現象
（注２） ＴＭＰ：ターボモレキュラーポンプ（Ｔｕｒｂｏ Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｐｕｍｐ）
（注３） ＤＰ：ディフュージョンポンプ（Ｄｉｆｆｕｓｉｏｎ Ｐｕｍｐ）
（注４） 装置立ち上げに要する時間は、ＤＰの場合約２０分に対して、ＴＭＰは約４分
【展示会出展スケジュ-ル】(実機展示)
５／２０（日）〜５／２２（火） 顕微鏡学会第６３回学術講演会（新潟：朱鷺メッセ）
５／３０（水）〜６／１（金） 第９回実装プロセステクノロジー展（東京：ビッグサイト）
８／２９（水）〜８／３１（金） ２００７分析展（千葉：幕張メッセ）
【「ＩＭ−３０００形」の主な仕様】
| イオン源 |
アルゴンガス |
| 加速電圧 |
０〜６ｋＶ(連続) |
| ミリングレ-ト(スポット) |
約４０μｍ／ｈ(Ｓｉ換算、照射角６０°) |
| 最大搭載試料サイズ |
５０ｍｍ（径）×２５ｍｍ（高さ） |
| 試料傾斜 |
０〜９０° |
| 所要電源 |
単相ＡＣ １００Ｖ (±１０％)、１．２５ｋＶＡ |
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【「ＩＭ−３０００形」の主な特長】
・ 直径約５ｍｍの範囲を均一にスパッタエッチングすることができます
・ 約４０μm／ｈ（スポット）の高ミリングレート
・ 応力レス加工を特長とするイオンスパッタリング現象により、機械研磨や切削時に生じやすい細かな傷や歪みを取り除くことができます
・ 加速電圧は０〜６ｋＶから選択できるので、鉱物などの硬い試料からダメージを受けやすい高分子試料まで、各種試料の表面加工に適応できます
・ 最大５０ｍｍ（径）×２５ｍｍ（高さ）の試料を搭載可能です
・ 卓上型のコンパクト設計です
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| 新型イオンミリング装置「ＩＭ−３０００形」 |
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